题目 / 答案提交正确答案
光刻技术中的反刻工艺,通常应用于()的情况。 A.对光刻精度较高B.光刻图案密度较高C.光刻的材料易于腐蚀D.光刻的材料难以腐蚀正确答案:光刻的材料难以腐蚀
关键字 浏览量:次
上一篇:TEM观测与SEM相同,对样品厚度没有要求。
下一篇:通常利用TEM观测的分辨率高于SEM。
相关问题